台积电明年5nm产能全年维持满载

工商时报 发表于 2020-10-26 14:50:29 收藏 已收藏
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台积电明年5nm产能全年维持满载

工商时报 发表于 2020-10-26 14:50:29

苹果A14及A14X处理器已在台积电采用5nm制程量产,预期明年会推出新款桌面计算机A14T处理器及苹果自行开发绘图处理器(GPU),同样采用台积电5nm制程投片。据供应链业者消息,苹果已着手进行新一代A15系列处理器开发,预期会采用台积电5nm加强版(N5P)制程,明年第三季开始投片。

苹果今年下半年推出新款iPad及iPhone 12产品线,采用自家设计的A14系列处理器,其中,iPad Air及iPhone 12全系列都采用A14应用处理器,至于即将在11月发表的Arm架构Macbook则会采用自行研发的A14X处理器。苹果A14以及A14X均已在台积电采用5nm制程量产。

苹果已宣布将推出Apple Silicon的Arm架构处理器以取代英特尔x86架构中央处理器。事实上,苹果自2010年开发出应用在iPhone及iPad的首款A4应用处理器至今,A系列芯片已经历10个世代的演进,自有Arm架构芯片研发及量产的学习曲线同样走了10年,运算效能及低功耗表现优于预期,预计在二年之内把Macbook及iMac处理器转换自家设计的Apple Silicon。

台积电明年5nm产能全年维持满载

除了应用于Macbook的首款Apple Silicon处理器A14X已采用台积电5nm量产,根据苹果供应链消息,苹果明年将推出研发代号为Lifuka的首款自行研发GPU,以及研发代号为Mt.Jade的首款桌面计算机处理器A14T,两款芯片都会在明年上半年采用台积电5nm制程投片。

苹果研发团队近期亦着手进行新一代A15系列处理器的开发,其中,应用在苹果明年新款iPhone 13系列5G智能型手机的A15 Bionic应用处理器,预期会采用台积电明年推出的5nm加强版N5P制程,明年第三季开始投片,而后续包括A15X、A15T等第二代Apple Silicon亦会随后推出,预估同样采用台积电N5P制程量产。

法人表示,苹果iPhone、iPad、Macbook及iMac等产品线已开始进入A14系列处理器的世代交替,而且新一代A15系列处理器研发符合预期,明年将会成为台积电5nm最大客户。由于包括高通、博通、迈威尔、超威、联发科等明年也会推出5nm产品,乐观看待台积电明年5nm产能全年维持满载。

台积电强攻3nm,稳坐全球EUV龙头

台积电及光刻设备大厂艾司摩尔(ASML)于上周法人说明会透露更多3nm细节。台积电3nm采用鳍式场效晶体管(FinFET)架构及极紫外光(EUV)微影技术,逻辑密度与5nm相较将大幅增加70%,且EUV光罩层数将倍增且超过20层。因此,台积电积极采购EUV曝光机设备,未来三~五年仍将是拥有全球最大EUV产能的半导体厂,包括家登及崇越等供货商可望受惠。

台积电EUV光刻技术已进入量产且制程涵盖7+nm、6nm、5nm。据设备业者消息,台积电7+nm采用EUV光罩层最多达四层,超威新一代Zen 3架构处理器预期是采用该制程量产。6nm已在第四季进入量产,EUV光罩层数较7+nm增加一层,包括联发科、辉达、英特尔等大厂都将采用6nm生产新一代产品。

台积电下半年开始量产5nm制程,主要为苹果量产A14及A14X处理器,包括超威、高通、辉达、英特尔、博通、迈威尔等都会在明年之后导入5nm制程量产新一代产品。5nmEUV光罩层数最多可达14层,所以Fab 18厂第一期至第三期已建置庞大EUV曝光机台设备因应强劲需求,台积电明年将推出5nm加强版N5P制程并导入量产,后年将推出5nm优化后的4nm制程,设备业者预期N5P及4nm的EUV光罩层数会较5nm增加。

台积电在日前的法说会中宣布,3nm研发进度符合预期且会是另一个重大制程节点,与5nm制程相较,3nm的逻辑密度可增加70%,在同一功耗下可提升15%的运算效能,在同一运算效能下可减少30%功耗。3nm制程采用的EUV光罩层数首度突破20层,业界预估最多可达24层。

ASML执行长Peter Wennink在日前法说会中指出,5nm逻辑制程采用的EUV光罩层数将超过10层,3nm制程采用的EUV光罩层数会超过20层,随着制程微缩EUV光罩层数会明显增加,并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。

台积电5nm及3nm的EUV光罩层数倍数增加,提供EUV光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大,今、明两年产能均已被大客户预订一空。至于EUV产能大幅提高,代理EUV光阻液的崇越接单畅旺,订单同样排到明年下半年。
       责任编辑:tzh

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