三星扩大部署EUV光刻工艺

电子说

1.2w人已加入

描述

继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后,三星也坐不住了。

按照三星的说法,自2014年以来,EUV光刻参与的晶圆超过了400万片,公司积累了丰富的经验,也比其它厂商掌握更多诀窍,领先对手1到2年。

据悉,三星的1z nm DRAM第三代内存已经用上了一层EUV,第四代1a nm将增加到4层。EUV光刻机的参与可以减少多重曝光工艺,提供工艺精度,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。

尽管SK海力士、美光等也在尝试EUV,但层数过少对效率提升并不明显,也就是单位成本高,毕竟EUV光刻机买一台要10亿元。三星这方面倒是有优势,因为自己还有晶圆厂,“东方不亮西方亮”光刻机的利用率很高。

 

责任编辑:PSY

打开APP阅读更多精彩内容
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉

全部0条评论

快来发表一下你的评论吧 !

×
20
完善资料,
赚取积分