光刻机的曝光方式
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描述
光刻机的曝光方式主要有三种，分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。
接触式曝光就是将掩膜与还没加工基片的光胶层直接接触并进行的曝光；
非接触式曝光是指掩膜和基片的光胶层不直接接触来实现图形复印的曝光；
投影式曝光是指掩膜与基片不直接接触，但用投影仪分方式来实现图形转移。
审核编辑：姚远香
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