一文解析DASP CdTe的本征缺陷计算

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描述

·DASP (Defect and Dopant ab-initio Simulation Package)是一款半导体缺陷和杂质性质的第一性原理计算模拟软件包,该软件包能针对输入的半导体晶体结构,基于材料基因组数据库和第一性原理软件包,自动计算并输出半导体的热力学稳定性,缺陷和杂质形成能及离化能级,半导体样品中缺陷、杂质和载流子浓度及费米能级,关键缺陷和杂质诱导的光致发光谱、载流子辐射和非辐射俘获截面及少子寿命。

针对任一半导体,DASP软件可以计算给出如下性质:热力学稳定性、元素化学势空间的稳定范围、缺陷(含杂质,下同)形成能、缺陷转变能级、各生长条件下的费米能级、载流子和缺陷浓度、缺陷的光致发光谱、缺陷对载流子的俘获截面、辐射和非辐射复合速率等。

本期将给大家介绍DASP CdTe的本征缺陷计算 5.1.3-5.1.3.2 的内容。

5.1.3. 缺陷形成能和转变能级计算DEC

5.1.3.1. 运行DEC模块

在上一步使用命令 dasp 2 执行TSC模块时,会生成CdTe/tsc目录,并在该目录中产生 2tsc.out 文件。等待程序执行完毕, 2tsc.out 有相应的完成标志。打开CdTe/dasp.in,确认化学势已被程序自动输入。

确认TSC模块完成后,回到CdTe目录,使用命令 dasp 3 执行DEC模块。DEC会在第一步已经生成的dec目录中继续输出相关文件,包括缺陷结构,缺陷目录,以及运行日志文件 3dec.out 。等待程序完成期间无需额外操作。

5.1.3.2. DEC模块运行流程

产生缺陷结构:

根据 dasp.in 中的参数intrinsic = T,DEC模块将产生CdTe的本征缺陷,即生成CdTe/dec/Intrinsic_Defect计算目录,在其下面分别有空位缺陷V_Cd,V_Te,反位缺陷Cd_Te,Te_Cd,间隙位缺陷Cd_i,Te_i的缺陷结构和目录。根据对称性判断,CdTe晶格中不存在非等价的Cd和Te原子,因此同样的缺陷构型只需产生一种。

晶体

同时,可在 3dec.out 看到DEC模块的输出如下:

晶体

可以看到,DEC模块目前只产生了所有缺陷电中性(q=0)的计算目录。

提交各缺陷q=0计算任务:

待中性缺陷的结构及其目录产生完毕后,DEC模块将调用VASP对其进行PBE优化和HSE总能的计算(对应于 dasp.in 中 level = 2 的参数),此步骤等待时间较长。可随时检查 3dec.out 文件。 3dec.out 中的相关信息如下所示:

晶体

可以看到Cd_Te1的电中性结构优化计算出现了某些错误,导致计算无法完成。但是程序并不会中断,而是继续完成除了Cd_Te之外的所有计算。因此,用户此时无需做额外操作,等待程序执行完毕即可。(Cd_Te缺陷的问题将在程序执行完毕后解决)遇到VASP计算出错的各类情况,请参考 常见问题 。

产生带电缺陷的计算目录:

等待所有(除Cd_Te和能量较高的间隙缺陷)电中性的计算完成之后,程序将根据中性缺陷的计算结果,判断各缺陷的价态范围,从而生成各带电缺陷的目录及文件,对于计算错误(undo,failed,not converged)或者不进行后续计算(skip)的缺陷,会进行提示。 3dec.out 中的相关信息如下所示:

晶体

将部分缺陷结构拖入可视化软件中,如下图所示:

晶体

晶体

CdTe的部分缺陷结构

提交各缺陷q≠0的计算任务:

待带电缺陷的结构及其目录产生完毕后,DEC模块将调用VASP对其进行PBE优化和HSE总能的计算(对应于 dasp.in 中 level = 2 的参数),此步骤的等待时间比3.2.2的更长。 3dec.out 中的相关信息如下所示:

晶体

计算带电缺陷的修正:

所有的带电缺陷(除Cd_Te)的计算完成后,DEC模块将计算FNV修正(根据 dasp.in 中 correction = FNV 的参数),并计算其缺陷形成能和转变能级。每个缺陷各价态的修正量和形成能的具体数值,都记录在 3dec.out 中:

晶体

所有的形成能和转变能级的数据,也都记录在各缺陷目录下的 defect.log 文件中。

输出形成能图像:

此时程序已经全部执行完毕,但是通过输出我们发现Cd_Te缺陷并没有被计算。解决方法如下:

1. 根据VASP的报错信息,适当调整/home/test/CdTe/dec/Intrinsic_Defect/Cd_Te1/initial_structure/q0 目录中的INCAR参数。

2. 回到dec目录,新建一个名为 redo.in 的文件,在里面写入/home/test/CdTe/dec/Intrinsic_Defect/Cd_Te1/initial_structure/q0。

3. 回到CdTe目录,再次使用命令 dasp 3 执行DEC模块。程序会自动判断已经完成的计算,并根据 redo.in 重新计算该缺陷。

4. DEC模块会单独针对Cd_Te缺陷做中性和带电缺陷的计算,并计算它的形成能。

最后,DEC利用所有修正过后的CdTe在两个化学势处的缺陷形成能,自动输出缺陷形成能 v.s. 费米能级的图像。如下图所示:

晶体

CdTe在(a)富Cd和(b)富Te时的缺陷形成能随费米能级的变化

晶体

CdTe的缺陷转变能级

编辑:黄飞
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