京东方获光电子集成基板专利，助力制造降本

　　京东方科技集团股份有限公司近期获得了一项名为“一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路”的专利，专利号为CN113571536B，授权公告日期是2024年5月7日，申请日期为2021年7月26日。

　　此项专利中，申请人提出了一种全新的光电子集成基板以及其制造方法，并在此基础上设计出了相应的光电子集成电路。这种集成基板主要由衬底、电子元件和光学元件三部分组成，其中电子元件位于衬底一侧，包含薄膜晶体管这一核心组件；光学元件则位于衬底另一侧，包括光电二极管，其结构包括N型半导体层、本征半导体层和P型半导体层，这些层都与半导体有源层处于同一层面。

　　值得注意的是，这项发明的优点在于，它使得显示基板的光电子集成基板光电二极管与薄膜晶体管的制作工艺具有高度的兼容性，从而大大减少了所需mask的数量，降低了制造成本。此外，通过优化设计，在保证蓝光信号光吸收的同时，还能有效减少对长波长环境光的吸收，提高了光电二极管的光谱选择性，有助于进一步降低误码率。