Molecular Imprints将为半导体大批量制造提供先进光刻设备

　　奈米图案成形系统与解决方案的市场与技术厂商Molecular Imprints， Inc. （MII） 宣佈，该公司已经获得一份包含多个压印範本的採购订单。这些範本将被整合进某半导体设备公司的光刻机中，包括 MII 专有的最新 Jet and Flash 压印光刻 （J-FIL） 技术，这项技术具备先进半导体储存设备大批量生产所需的性能。

　　Molecular Imprints 总裁兼首席执行官 Mark Melliar-Smith 表示：「这份多範本订单是我们的客户为 J-FIL在生产前最后準备阶段的使用所投上的信任的一票。我们的设备和商用面具合作伙伴与内部团队已经对开发活动进行了成功协调，并在去年取得了巨大的进步，特别是在减少不合格和降低整体拥有成本 （CoO） 方面有了很大的改善。我们期待着J-FIL 技术下一步的商业化进程，希望能为这个半导体储存器接下来几年的发展提供支援。」

　　该公司的 J-FIL 技术已经展示了24奈米图案结构，其刻线边缘粗糙度小于2奈米（3西格玛），临界尺寸均匀性为1.2奈米（3西格玛），可扩展至10奈米，使用的是简单的单一图案工艺。J-FIL 避免了功率受限的远紫外线 （EUV） 光源、复杂的光学透镜和镜面以及利用超灵敏光致抗蚀剂让图案成形的难度，这些固有的拥有成本优势使其非常适合用于半导体储存器的製造。