平面光波导技术
平面光波导技术是在集成电路技术的基础上发展起来的,有其独特的地方。集成电路的基本元件是电阻、电容、电感和晶体管(二极管、三极管),集成电路技术是在硅衬底上通过薄膜沉积、扩散、外延、光刻、刻蚀、退火等工艺制作这些基本的元件,并且用导线互联。平面光波导的基本元件是激光器、光波导和探测器,所用衬底材料各异、如 InP、GaAs、SiO2、 LiNbO3 等,材料各异工艺也不尽相同。集成电路技术对所成薄膜的厚度、折射率和残余应力要求不甚严格,但对于平面光波导技术而言,厚度、折射率和残余应力则要求精细控制,否则不能实现光波信号的产生、控制、传输与探测。
平面光波导器件
平面光波导器件是采用平面光波导技术制造而成的器件,分为无源器件、有源器件以及有源/无源混合集成器件。
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