应用声明缺陷评估工具为0.18微米晶圆厂设定了步伐

加利福尼亚州圣克拉拉市 - 应用材料公司今天表示其SEMVision缺陷检查系统已经过验证国际Sematech生产0.18微米芯片。据Applied介绍，该行业联盟已指定扫描电子显微镜(SEM)系统作为第一个能够自动检查和分类晶圆厂缺陷的批量生产工具。

随着器件尺寸缩小，定位可能破坏制造产量的微小缺陷不仅变得更加困难，而且确定异常是严重还是仅仅是“滋扰缺陷”也变得更加困难。能够在生产车间快速对缺陷进行分类变得至关重要，因为晶圆厂经理在将新的半导体材料引入工艺的过程中试图提高产量(参见SBN在线杂志的特写)。

“SEMVision系统为基于SEM的半导体行业自动缺陷分类设立了新的基准，”Sematech在德克萨斯州奥斯汀的前端处理部门主管Rinn Cleavelin表示。“该计划验证了SEMVision系统符合国际半导体技术路线图中针对180纳米技术所述的生产ADC自动缺陷分类要求。特别令人印象深刻的是该系统的高产量和可靠的性能，这是实现产值产量的重要要求，“他补充道。

应用材料公司表示，Sematech使用SEMVision基于规则的自动缺陷分类方法，基于八种核心缺陷类别为工具供应商和用户创建了一种通用语言。应用说，该术语将使芯片制造商能够按类型(例如颗粒或划痕)，材料特性以及操作员可以用来快速确定问题根源的其他特征对缺陷进行分类。

预计芯片制造商将在未来几年内在自动缺陷检查和分类系统上投入更多资金。 Dataquest预测，这些工具 - 包括基于光学和SEM的系统 - 到2003年将产生3.84亿美元的收入，而1998年为1.58亿美元。