Mentor，KLA-Tencor提供模板以简化OPC光掩模计量

俄勒冈州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布扩大合作用于使用亚波长光掩模改善晶圆厂产量的产品。两家公司表示，Mentor网站将提供用于KLA-Tencor关键尺寸（CD）扫描电子显微镜（SEM）工具的新计量模板，以减少设置时间并帮助在过程监控应用中收集数据。

Calibre Optical＆amp;过程校正测试模式可从Mentor下载，用于KLA-Tencor的每个8100XP系列CD-SEM测量系统。模板和CD-SEM系统协同工作，直接测量掩模误差增强功能（MEEF），它表征了从光罩上印刷在硅上的误差的影响。

“当将Mentor模板与能力结合起来时在同一张CD SEM中快速测量光罩和印刷晶圆，工艺学习率呈指数级增长，“KLA-Tencor电子束计量部门营销总监Rich Quattrini说。 “这为我们的客户在快速将新的光刻技术引入批量生产方面提供了强大的优势。”

在今天宣布之前，威尔逊维尔的Mentor与KLA-Tencor的光栅和光掩模部门合作调整OPC算法以增加检查能力。 Mentor和Finle Technologies最近收购了几篇关于MEEF和模拟问题理论方面的技术论文，最近被San Jose KLA-Tencor收购。

“展望未来，IC设计的验证和可制造性工具必须考虑到大量的掩模和芯片问题，当事情变小时会变得更加困难，“Mentor的Calibre业务部门主管Joe Sawicki说。 “确保电子设计自动化工具可以使用来自合作伙伴（如KLA-Tencor）的高质量数据来设计产量，这是确保亚波长设计产量更高的必要途径。”

光刻中的OPC策略KLA-Tencor公司光刻解决方案部副总裁斯科特·阿什肯纳兹表示，现在需要保持先进的制造产量不会崩溃。 “成功实施OPC的一个关键是对MEEF的理解，这只会变得越来越重要，”他说。 “导师一直非常积极地量化这些现象并调整他们的软件以正确地考虑它们。”