NASHUA,NH - Mulith Inc.,声称已经开发出突破性的光刻技术用于图案化目前已推出的0.10微米以下的特征尺寸已将该技术扩展到晶圆计量。
新的光学技术被称为参考分布航空图像形成(见4月25日的故事)。 Mulith说它也可以用于原位关键尺寸测量,质量控制,缺陷检查和失效分析
Mulith声称其基于激光的计量工具提供的分辨率优于扫描电子显微镜(SEM),同时不需要昂贵的发射源,静电透镜,磁物镜,复杂的热传导方法和真空系统。最重要的是,它不会损坏晶圆并首次提供原位功能。
该工具可以对光罩和晶圆进行缺陷测量和检查,无需任何Mulith表示,硬件或软件转换的分辨率高于KLA-Tencor,应用材料公司,Horiba公司,Lasertec公司,Inspex公司和日立公司提供的分辨率,但这些产品都没有提供原位功能。它可以集成到用于缺陷检测的化学机械平面化(CMP)工具中,以补充来自Nanometrics和Nova Measuring Systems等公司的原位CMP薄膜厚度工具。
“该工具还可以结合到现有的步进器,步进扫描光刻或用于晶圆对准的Mulith RIF光刻工具中,”Mulith公司总裁Greyson Gilson说道。“通过RIF获得的图像可以转换为电子图像信号并用于反馈回路,以便于实现高精度的光刻过程。“
Mulith不打算自己构建RIF光刻或计量设备。相反,它正在寻求许可其技术,参与合资企业或出售给资本设备公司。
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