中科院攻破2纳米芯片技术，为芯片领域打下基础

（文章来源：Science锋芒）

我国在芯片领域频频取得突破，这对于我国来说是非常好的。虽然我国外芯片领域暂时只能够生产出实现商用的光刻机还在28nm。

但是据报道中国科学院已经攻克了2纳米芯片的关键技术，随后要解决的就是量产问题了，14纳米芯片生产线难题我国已经解决了，随后更低级别的芯片也将会实现量产。在日常生活中，芯片小小的体积，很少被人关注到，但是它却是一个特别高端的技术，它是很多智能设备的核心，手机有了它可以实现良好的沟通。

战机上有了它，相关人员可以更好地控制战机，如果这些涉及到智能的设备都没有了体积小小的芯片，那么这些设备的正常运转就会很困难。

各位小伙伴应该对芯片生产技术有一定的了解，光刻机就是整个芯片生产最为重要的部分。光刻机的作用在于，它能在芯片上刻画出研究人员提前做好的程序，然后让机器按照这个程序运转起来。我国的芯片技术要取得突破，那就要先解决如光刻机制造的问题，简单来说就是要保证高端芯片的质量。

目前我国现有的光刻机精度只是45纳米，与其他国家相比这已经很落后了，在我国还在头痛比45纳米低一个级别的芯片时，荷兰有一家公司花了20年研发了7纳米EUV光刻机，2018这个公司才研究出了商用生产线。

中国为了在芯片领域尽快赶上其他国家，从荷兰订购了一台这样的光刻机，不过过了2年，这台光刻机并没有交付。在全球都在研制7纳米芯片时，中国研究人员在2纳米芯片的关键技术上取得了突破，这为我国未来在芯片领域的发展打下了良好的基础，它还是我国中科院的全球首创技术，可以说我们的中科院再立大功。

现在2纳米芯片的关键技术已经突破了，随后就是要解决量产过程中会遇到的问题了。现在中国已经在14纳米的芯片上实现了量产，等到荷兰的光刻机交付之后我国7nm的芯片量产也将加快步伐，随后就是2nm的芯片量产了，这真是让世界惊叹。
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