多层片式瓷介电容器的生产工艺过程

工艺综述

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多层片式瓷介电容器的生产工艺过程

我国自八十年代从美国引进独石电容的生产线以来,至今已有十多年的生产经验。在生产工艺的某些方面,比如低烧独石电容器的生产、研究,已取得了不小的成绩。介质层数在150层以下的常规产品的电性能及可靠
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性,已与世界先进国家的水平相差无几。只是在更高层数、更高耐压、高可靠的产品性能方面同世界先进国家还存在一定的差距。
独石电容的整个生产工艺过程是一个十分复杂的过程,其对生产环境,生产设备的精度,原材料的选取都有十分苛刻的要求,我们流延成膜与丝网印刷工作间的洁净度一般控制在3000左右,世界级水平。
生产工艺流程:

高频电容

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