我们能否用逆向技术来复制荷兰的光刻机技术

（文章来源：网络整理）

从理论上看，使用逆向技术确实可以复制荷兰ASML的光刻机技术，但是从实际出发，这是行不通的，就算把光刻机的设计图纸给我们，我们也无法生产。

其实我过从上世纪70年代就开始了光刻机的研发工作，在1985年时就研制成功了一台g线分步投影光刻机，这比国外的同类产品足足晚了6年，从那以后我国也没有放弃对光刻机的研发工作。

目前我国最先进的光刻机就是上海微电子装备有限公司制造的90nm工艺的光刻机，但是荷兰ASML公司最先进的光刻机已经是5nm了，今年台积电就可以做出5nm工艺制程的芯片了，而我国90nm的光刻机对于目前的芯片来说已经不够用了。

如果想根据ASML的光刻机复制一台光刻机，首先需要将光刻机拆开，ASML在设计光刻机时为光刻机上了一把“锁”，如果光刻机在它们不知道的情况下被拆开，光刻机就自动向ASML报警，所以我们也无法拆开。

在之前中国一家光刻机制造公司就去ASML公司进行参观，ASML公司的员工直接对我国的公司说：“即使将光刻机的设计图纸给你们，你们也做不出”。其实这是真的，并不他们对我们的嘲讽，即使给我们设计图纸，我们也生产不出顶级的光刻机。

对于一台光刻机来说，拥有几万个零件，这些零件几乎都是世界最好的。其中光刻机最重要的就是镜头与光源，全球范围内做镜头最好的企业就是德国的蔡司，做光源做好的就是Cymer公司，这两家公司都已经被荷兰的ASML公司进行了收购，所以蔡司与Cymer不可能再向其他的光刻机制造厂商提供镜头与光源。ASML要求购买它的光刻机的企业必须进行投资，这也为ASML提供了强大的资金支持，其他的光刻机厂商很难进行发展。

再加上，根据1996年欧美签署的瓦森纳协议，欧美很多高精端仪器或者配件都对我国禁运，我们即使有钱也买不到先进的零件。

其实早在2018年中芯国际就向ASML公司购买了一台EUV极紫外光刻机，EUV极紫外光刻机应该是目前顶级的光刻机了，只有荷兰的ASML公司可以生产，每年的产量也是非常有限的，但是由于欧美国家的各种原因，迟迟没有将光刻机交给中芯国际。

台积电应该目前最好的芯片代工厂了，在2018年实现了7nm工艺制程，2019年实现了7 nm EUV工艺制程，今年可以实现5nm芯片的大规模生产，未来的苹果A14处理器与华为的麒麟1020处理器都是由台积电进行生产。中芯国际也就在几个月前才实现14nm的工艺制程，相较于台积电还是非常落后的。

因为一些不可抗拒的原因，我们无法买到先进的零件，所以也就无法生产出顶级的光刻机。但是因为一些政策，荷兰ASML公司不可以向大陆出售顶级的光刻机，我们只能使用落后一代的技术。制作一台先进的光刻机，并不是只靠一两个企业就可以完成的，需要整个制造业的共同努力。
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