国产半导体设备厂商在5纳米刻蚀领域有了新成绩

（文章来源：21IC）

半导体产品的生产和制造涉及多种高端精密技术，堪称工业制造皇冠上的明珠。尤其是其中的光刻机，是生产大规模集成电路的核心设备，目前核心技术仍然把持在国外仅有的几家大公司手中。可喜的是，国内半导体设备厂商正在奋力崛起，在提升国产集成及自研替代方面取得重大突破。

最近，福建安芯半导体公司先后交付了两台价值近千万元的光刻机，客户分别是海康威视和用于 CMOS 领域研究国内某研究所。

据了解，光刻机分为接触式、接近式、步进式。目前国内使用较多的为步进式光刻机。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，如 ASML、尼康、佳能。因此光刻机价格昂贵。

福建安芯半导体是福建泉州芯谷南安分园区引进的首家高科技半导体设备公司,主要经营黄光设备设备翻新、改造和安装调试，自主研发新黄光和蚀刻设备的销售及技术支持，并提供半导体整线解决方案，产品涉猎集成电路、LED、MEMS、显示面板、光伏等黄光设备领域。除了向客户提供半导体生产线设备总体解决方案的同时，也向客户提供先进半导体器件的设计、制造等技术咨询。福建安芯半导体总经理张琪表示，目前我们尚不能完全自主研发，但通过改造、提升，实现了 60%至 70%的国产化。

除了光刻机，半导体设备生产中还需要各种其他设备，刻蚀设备就是不可或缺的一项。最近有报道显示，国内的中微半导体设备公司已经能够生产高端刻蚀设备，其5nm刻蚀机已经批量生产，用于台积电的5nm生产线中。

据官网介绍，中微半导体是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，为集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和高质量的服务。中微开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。

根据该公司年报，中微公司开发的高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到7纳米的芯片生产线上。同时，公司根据先进集成电路厂商的需求，已开发出5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单。虽然中微没有明说，但业界猜测这家客户就是台积电，因为只有台积电量产了5nm工艺。

据了解，中微半导体目前正在配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5纳米以下刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。
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