投射电容式触摸屏的结构

　　自从iPhone采用投射电容式触摸屏以来，短时间内涌现了大量结构设计方案。投射电容式触摸屏的特点是，感应器在触摸屏表面以下，外覆有保护玻璃。一些正在开发的新产品采用了单面设计，即所有的感应层都设计在单一基板的一面上。在这个目前最薄的投射电容式触摸屏设计中，每一层采用积层溅射工艺。基于两层透明导电层的投射电容式触摸屏的基本原理，在设计上可以作出各种变化。例如，用超微细（lO^ni）导线可以替代某层，从而少溅射一层ITO。目前市面上的绝大多数手机和签名采集板在不同PET层上镀有IT0，此外常见的触摸屏也是使用双面镀层或在两层基板上单面镀层的ITO镀层玻璃。

　　（1）膜层图样

　　在投射电容式触摸屏中，ITO膜可以设计蚀刻成各式各样，但制造成本是一样的，并且由于触摸传感器和电子控制系统的高度相关性，很难说哪种图样优于其他图样。

　　早期iPhone的投射电容式触摸屏采用的图样是最简单的一种：玻璃两面的IT0前面蚀刻成10列、线宽lram、间距5mm的列排列层，背面蚀刻成15行、线宽5mm、间距37^m的行排列层，列排列层10列之间保留了不连线（孤立）的条以保持统一的光学效果。这种设计对工艺要求简单，但需要控制器的处理能力强以生成精确坐标。

　　最常见的图样是连锁菱形（实为正方形45°斜放），这种图样的电极岛之间连接可靠（连线最短），且最大程度充分利用了屏幕面积来感应手指电容，菱形图样分成互补的两层，一层是水平菱形行，一层是垂直菱形列，导线交叉部位像小桥。菱形岛的尺寸大小取决于制造商，通常在4~8mm之间，目前大部分投射电容式触摸屏都采用菱形图样。

　　（2）触摸屏导体方块电阻通常采用15011/口（单位为n/（m2*mil））的ITO涂层玻璃加工，要形成线宽20pm的图样，需要用光蚀刻技术完成，比如在LCD面板厂工艺上使用的光刻消融剂。ITO越厚，电阻越小，信噪比越好，但是透光率差;反之ITO越薄，透光率越好，但信噪比更差。用PET（透明塑料，主要制造矿泉水瓶）作基板时，线宽通常是100~200jim，可以使用丝网印制、光蚀刻或激光切割，在PET上制作线宽30~5（Vm的网纹图样的工艺还在研究中。实际应用中，最下面还有第3层IT0用作屏蔽层以隔绝LCD的干扰，屏蔽层通常采用150~300fi/□的方块电阻。触摸屏边框上的信号线通常为钼/铝/钼材料，同样是采用真空磁控溅射工艺在ITO溅镀之后镀上。