三星新建5nm晶园厂，使用先进的极紫外光微影

2020年以来，以台积电和三星为代表的芯片半导体也从7nm逐步向5nm进发，实际上麒麟1020和苹果A14芯片就是基于台积电5nm工艺，表现相较7nm将会更上一层楼。

很明显在7nm时代，三星是落后于台积电的，不过这家巨头似乎想在5nm时代弯道超车。

近日据媒体报道，三星宣布将于汉城南部的平泽市建造全新的5nm晶圆厂。

该工厂是三星在韩国国内的第六条晶圆代工产线，将应用先进的极紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技术，拿7nmEUV工艺对比，三星5nmEUV工艺的性能提升10%，功耗降低了20%，逻辑面积效率提升25%。

三星表示这座工厂将于2021年下半年投产，产品主要应用于5G网络和高效能运算方面。

值得注意的是，三星的野心不止于此，在规划中的3nm时代，三星果断抛弃了FinFET，押宝GAA环绕栅极晶体管技术，试图反超台积电。