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今天,#国产光刻机今年要下线#上了热搜,那么,国产光刻机今年真的能下线进入实际生产环节吗?是28nm还是14nm,还是最新的7nm?我们来看看详情。
28nm沉浸式光刻机今年交付
光刻机被誉为工艺皇冠上的明珠,可以说是IT科技行业最高端的制造设备。此次,上海微电子公司28nm沉浸式光刻机于今年交付,将打破国外封锁,填补国内市场的空白,加速芯片国产化。
光刻机市场简析
光刻机作为世界上最精密的生产设备,其重要性是不容置疑的。纵观全球,目前仅有四家公司能够生产出光刻机,而在这四家公司中,荷兰的 ASML是光刻机领域绝对的龙头企业,其推出的 DUV和 EUV光刻机几乎占据了全球大部分的市场份额。
但是,荷兰ASML这些热销的光刻机,在早前无论是哪一种,中国想获得都十分困难。
而荷兰的ASML方面,由于其光刻机在制造过程中所用的关键技术,几乎都与美国技术有关。因此就算想向中国出口光刻机,也还是身不由己。
目前,虽然在一般情况下,ASML向中国出口DUV光刻机并不需要许可证,但是我们最急需的最高端的EUV光刻机, ASML必须获得许可证才能实现出货。
ASML方面,虽然还曾明确表示,将加快其在国内市场的布局,并对全球客户一视同仁,但到目前为止,EUV光刻机仍未能获准出口到中国。
不过,日前国内传来两则好消息,一是上海微电子方面表示,今年将推出首台28纳米沉浸式光刻机,二是国产28纳米光刻机的线下投产,可以加快芯片国产化的速度。
显然,这两则都同时告诉我们“中国制造”的光刻机来了!虽然即将交付的28纳米光刻机与荷兰的 ASML光刻机相比仍有一段距离,但现在这种28纳米光刻机已能满足我们的最低要求。
此外有了28纳米光刻机,要想生产7纳米等先进工艺的芯片也并不是不可能。因为台积电和中芯国际都先后通过多次曝光技术,实现了7纳米制程芯片的量产。
另外,不得不提的是,国内光刻机实现了真正的中国制造,将有望告别荷兰 ASML,最终摆脱美国技术的限制。
毕竟ASML始终不能够实现完全自由出货,而且就算是DUV光刻机也只是在一般情况下不需要许可,一旦出现特殊情况,ASML还是必须要拿到许可证才能够向国内出售。
再加上,美国方面,曾不止一次地修改规则,对中国实施芯片断供,已让国内厂商对他国失去信任。
而国产的28纳米光刻机完全属于中国制造,不仅出货将不会受到限制,国内的所有厂商都能购买使用,而且光刻机是我们中国制造,使用时我们也会更放心。
如今,即将下线的28纳米光刻机,以及已实现量产和领先的国产蚀刻机等设备,终于具备了组建纯国产芯片生产线的能力,同时也有可能量产出能够满足国内大部分厂商需求的芯片。
来自网友@品聊科技
对国外光刻机市场的影响
网友@数码IT闲聊八卦表示:
国产产业链足够威胁国外了(制裁警告),三五年,真的等得起,7nmEUV也够用,而且台积电2nm基本是极限了,不进步,肯定被追上。
当然搞出来,距离投产商业化还有最后一段路。这时候,中芯的价值就出来了。
国家给我们交出了一个全产业链布局的答案。紫光集团,京东方,中芯,上微。以及统筹各高校研究所。02专项与大基金作为资金支持。
这事才搞了多久?其实想想真的可怕的。
恒捷供应链市场经理表示:上海微电子(SMEE)采用国产及非美技术和零部件研发的,可实现28nm芯片工艺制程的,第二代深紫外(DUV)#国产光刻机今年要下线了#,计划Q4实现量产交付。该光刻机为100%绕开美国技术和设备而生,让我们适当缓解打压抬起头,至少可推动光刻机豪强阿斯麦ASML部分光刻机的降价,或逐渐准售尖端的极紫外(EUV)光刻机。
今年进博会上阿斯麦推介了更先进的深紫外(DUV)光刻机,最高能支持7nm工艺制程的芯片生产。中科院去年宣布进军光刻机,相信在量子芯片、光子芯片、第三代半导体等领域中国可以实现弯道超车的。中国是全球最大的半导体应用市场,也就是最好的芯片试炼场,假以时日,我们的半导体产业链会像当前的电子产业链一样完整和齐全。
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28nm制程及市场和板块分析
28nm制程是大约是8年前的工艺,但是已经可以解决燃眉之急。
制程落后一点没关系,先实现零的突破,然后就是比学赶帮超的过程。
曾经,我们在高铁上也是落后的,现在呢?
那些杀不死我们的,终将使我们变得更强大。
对于A股市场而言,半导体芯片板块,小于28nm的芯片企业10年免税红利及国家科技基金投资的相关标的,会受到关注。
来自网友@丁臻宇
结语
从上面可以看到,28nm光刻机2021下线是没问题的,但是正式进入生产环节估计要2022年了,从最近特朗普美国政府对中国的制裁与封锁来看,应该不是短期的,也不是特朗普个人为之。无论国产核心科技落后多少,但是我们在应用与核心技术之间不断的平衡与进步,只要28nm真正用于生产和量产,核心技术解决以后,那么无论是制造还是设计、研发、应用等整个产业链,7nm, 5nm,2nm也就不远了。
编辑:hfy
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