韩国加快研发EUV光刻技术，专利申请量猛增

援引韩媒 BusinessKorea 报道，以三星为代表的韩国企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。根据对韩国知识产权局（KIPO）过去十年（2011-2020）的 EUV 相关专利统计，在 2014 年达到 88 项的顶峰，2018 年为 55 项，2019 年为 50 项。

特别需要注意的是，韩国企业在 EUV 光刻技术上一直不断缩和国外企业之间的差距。在韩国知识产权局 2019 年收录的 50 项专利中，其中 40 项是由韩国人提交的，只有 10 项是外国人提交的。这也是韩国人提交的专利首次超过外国人。到 2020 年，韩国提交的申请也将是外国人申请的两倍以上。

EUV 光刻技术整合到多种先进技术，包括多层反射镜、多层膜、防护膜、光源等等。在过去十年里，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术领先。最近，代工公司开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器（AP）。

如果按照公司划分，前六家公司占到总专利申请量的 59%。其中卡尔蔡司（德国）占18％，三星电子（韩国）占15％，ASML（荷兰）占11％，S＆S Tech（韩国）占8％，台积电（中国台湾）为6％，SK海力士（韩国）为1％。

如果按照详细的技术项目来划分，处理技术（process technology）的专利申请量占32％；曝光设备技术（exposure device technology）的专利申请量占31％；膜技术（mask technology）占比为 28%，其他为 9%。

在工艺技术领域，三星电子占39％，台积电占15％，这意味着两家公司占54％。在膜领域，S＆S Tech占28％，Hoya（日本）占15％，Hanyang University（韩国）占10％，Asahi Glass（日本）占10％，三星电子占9％。