电子常识
氮化镓是一种无机物,化学式GaN,是氮和镓的化合物,是一种直接能隙(direct bandgap)的半导体,自1990年起常用在发光二极管中。此化合物结构类似纤锌矿,硬度很高。氮化镓的能隙很宽,为3.4电子伏特,可以用在高功率、高速的光电元件中,例如氮化镓可以用在紫光的激光二极管,可以在不使用非线性半导体泵浦固体激光器(Diode-pumped solid-state laser)的条件下,产生紫光(405nm)激光。
氮化镓的熔点和饱和蒸气压相当高,因此在自然界无法以单晶体的形式形成,目前常用的制备方法为薄膜法和溶胶凝胶法。
与现今的硅器件相比,氮化镓的导通电阻要低3个数量级,击穿电场是硅器件的10倍,带来的就是更高的转换效率和工作频率,并降低元器件体积。另外氮化镓可以在严酷的工作环境下保持正常的性能,不过目前氮化镓的成本还是太高了。
虽然氮化镓的优点多,物理性能优异,但它不能应用在比较高的电压环境下。在昆仑电源中,氮化镓材料也只能应用在低压侧的场效应管上,而高压侧则是采用更耐压的碳化硅材料。
目前鑫谷将MOSFET改用氮化镓后,已经可以将115V下的电源转换效率提高到95%的钛金标准水平,要知道这么高的转换效率下,若想再提升需要付出巨大的代价。在实验环境下,昆仑电源已经比钛金标准高出1%。而台系电源大厂振华的LEADEX T1000W钛金电源产品介绍上,我们看到转换效率也就是94.4%。
1、即使在1000℃氮与镓也不直接反应。在氨气流中于1050~1100℃下加热金属镓30min可制得疏松的灰色粉末状氮化镓GaN。加入碳酸铵可提供气体以搅动液态金属,并促使与氮化剂的接触。
2、在干燥的氨气流中焙烧磨细的GaP或GaAs也可制得GaN。
责任编辑:YYX
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