三星携手ASML开发下一代EUV光刻机方面的合作

据报道，三星正寻求加强与荷兰半导体设备制造商ASML的技术和投资合作。

该报道称，包括CEO Peter Burnink在内的ASML高管于上周访问了三星的半导体工厂，讨论了在EUV光刻机供应和开发方面的合作。

ASML高管与三星副董事长金基南进行了会谈。业内人士认为，三星在此次会谈中要求ASML供应更多的EUV光刻机，并讨论了双方在开发下一代EUV光刻机方面的合作。

据悉，三星需要更多的EUV光刻机来扩大其在全球晶圆制造市场的份额。然而，作为世界上唯一的EUV光刻机制造商，ASML向台积电提供的设备要多于三星。

因此三星希望与ASML建立技术联盟，以确保下一代EUV光刻机的供应。对于ASML来说，与三星的投资合作是必要的，因为开发下一代EUV光刻机需要大量投资。

该报道指出，三星希望投资开发高数值孔径的EUV光刻机，以提高半导体微制造所需的电路分辨率。该设备的价格预计为每台5000亿韩元，比目前的EUV设备高出2到3倍。ASML计划在2023年年中推出该设备的原型，三星则希望优先获得ASML的供应，以在技术上领先台积电。

不过，三星一位官员表示，会议并没有做出具体的投资决定。他说，ASML高管到访三星是为了回应李在镕10月份访问ASML总部。

另有消息称，ASML的高管此次还会面了SK海力士总裁李石熙，双方讨论了扩大UV设备供应和促进合作的途径。
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