中芯国际：美国新规对10nm及以下先进工艺研发有重大不利影响

　　中芯国际 12 月 20 日晚间发布说明公告称，公司被列入 “实体清单”后，根据美国相关法律法规的规定，针对适用于美国《出口管制条例》的产品或技术，供应商须获得美国商务部的出口许可才能向公司供应；对用于 10nm 及以下技术节点（包括极紫外光技术）的产品或技术，美国商务部会采取 “推定拒绝”（Presumption of Denial）的审批政策进行审核；同时公司为部分特殊客户提供代工服务也可能受到一定限制。

　　

　　在说明公告中，中芯国际表示，经初步评估，该事项对公司短期内运营及财务状况无重大不利影响，对 10nm 及以下先进工艺的研发及产能建设有重大不利影响。公司将持续与美国政府相关部门进行沟通，并视情况采取一切可行措施，积极寻求解决方案，力争将不利影响降到最低。

　　值得一提的是，有媒体报道称，在中芯国际新任副董事长蒋尚义的帮助下，中芯国际将寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦（ASML）就 EUV 光刻设备进行谈判。中芯国际一直难以从阿斯麦获得 EUV 光刻设备，尽管阿斯麦在法律上不受某些约束条件的影响，但仍存顾虑。

　　责任编辑：haq