为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机?

光刻机是芯片制造过程中，所需的最核心设备，光刻机的精度决定着芯片的上限。

目前，还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。

在2020年11月的世博会上，ASML展示了DUV光刻机。该DUV光刻机可以生产7nm芯片，中国可以从ASML采购，且不受美国制约。

那么，既然DUV光刻机能销往中国，也能制造7nm，为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机？

首先，二者所用的准分子激光束不同，造成精度不同。

在芯片制造过程中，EUV光刻机采用的是极紫光源，波长为13.5nm，光束功率更强，精度也更高。

可以轻松制造出7nm芯片，甚至5nm、3nm。

而DUV光刻机则采用的准分子深紫外光源，干式光刻技术最高能实现157nm波长；浸没式光刻技术能实现193nm，等效134nm的波长。DUV光刻机与EUV光刻机的差距一目了然。

在曝光过程中，波长更长的DUV光刻机光束散射、折射更多，这影响了其精度效率。

因而，DUV光刻机虽能实现7nm，但效果并不如EUV光刻机理想。

其次，光刻机波长决定着光刻技术的分辨率套刻精度。

频率高、波长短的光束透镜补偿更直接，因而良品率更高，并且精度上限更高。EUV光刻机能实现7nm，甚至是5nm、3nm。

而DUV光刻机则需要多次曝光之后，才能实现7nm，无法继续提高精度，并且多次曝光使得制造芯片的成本更高。

因此，荷兰DUV光刻虽然能制造7nm，但EUV光刻机是最佳选择。

中芯国际追求EUV光刻机之路

前段时间中芯国际“内讧”风波时，在网传梁孟松辞职信中有提到，中芯国际已经攻克的5nm、3nm关键技术，只等EUV光刻机。不难看出EUV光刻机的重要性。

若是中国能买到一台EUV光刻机，那中国芯片产业将实现一次大跨越。

因此，中芯国际一直想要买到一台EUV光刻机。2018年，中芯国际曾从ASML买到了一台EUV光刻机，荷兰政府也向ASML发放了出口许可。

然而，就在等待交付的时间里，发生了一系列的变化，美国向荷兰政府施压、ASML主要元件供应商工厂起火等等。最终，中芯国际至今没有收到这台EUV光刻机。

近来有消息称，中芯国际将就EUV光刻机问题，同ASML进行谈判。这一次，中芯国际能否迎来EUV光刻机，就让我们拭目以待。
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