中兴手机携第二代量产屏下摄像技术、全球首发屏下3D结构光技术亮相

2月23日，2021上海MWC国际移动通信展在上海新国际博览中心正式开幕。本届展会上，中兴手机携第二代量产屏下摄像技术、全球首发屏下3D结构光技术亮相，用全新的突破性屏下技术方案，再次引领智能终端行业发展。此次，全球首发的屏下3D结构光技术方案提供商正是光鉴科技。

在今年MWC上海展现场，中兴手机带来了全新的屏下技术方案——第二代量产屏下摄像技术。在上一代屏下摄像方案的技术基础上，将屏下摄像手机的屏幕像素密度提升至400ppi，成像效果将更加清晰细腻，画面细节也将更加丰富，在屏下0开孔的全面屏加持下，为用户带来更为极致的视觉体验。

此外，光鉴科技携手中兴手机，共同推出屏下3D结构光技术，解决了iPhone上存在的齐刘海问题，创造了全面屏手机的又一个里程碑。同时，基于中兴通讯多年累积下形成的集“研发投入-技术领先-业务增长”的良性循环，光鉴科技的屏下3D结构技术也会为后续量产屏下3D手机打下了坚实的基础，并将助力其在5G时代构建起领先于行业的核心竞争力。

众所周知，自苹果公司在2017年首次发布带3D结构光技术的iPhone X以来，华为、OPPO、小米等公司均陆续发布了带3D结构光的高端机型，但是3D结构光方案由于需要发射端（激光散斑发射器）与接收端（红外摄像头）间隔一定距离，会造成一个不太美观的“齐刘海”，也就是大家俗称的“刘海屏”，这严重影响了3D结构光技术在手机领域的普及。随着“全面屏”成为国内手机的主流，业界都在寻找能够与全面屏兼容的3D技术，因此，光鉴科技的屏下3D结构光技术应运而生。

（图为屏下3D结构光技术点云图）

光鉴科技自成立起，就独创了拥有自主知识产权的EEL（边发射激光器）结合纳米光子芯片的结构光方案。该方案仅需要单个EEL激光器作为光源，通过纳米光子芯片进行波前调制，即可在远处形成结构光所需要的激光散斑分布。

（3D结构光发射器投射出的红外点阵）

与屏下RGB摄像头技术类似，屏下3D技术的核心挑战是，屏幕的透光率比较低，接收端探测到的光信号比较弱。而光鉴科技的方案正好克服这个问题，并在屏下3D领域有以下几大关键的优势：

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更高的功率密度和效率。基于边发射激光器（EEL），可以将散斑的功率密度提升10倍以上，补偿红外透过率有限的屏幕造成的功率损失，更适合屏下3D方案。

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点阵、泛光二合一。光鉴方案通过有源纳米光子芯片控制投射光场，投射功能可以在点阵和泛光之间快速切换，不仅能节省成本，而且可以节省一个特殊处理的屏幕出光区域。

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成本低。相比于传统VCSEL+DOE方案，光鉴科技不论从光学结构、还是发射端的成本以及3D重建算法均大力度的降低了成本。

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独立的知识产权。Apple公司在传统基于VCSEL+DOE的方案中拥有非常完整的专利壁垒。光鉴的方案摆脱了结构光技术突破了Apple在结构光技术的垄断，让中国的厂商和产品也能够应用3D视觉的技术方案。   此外，光鉴科技的屏下3D技术，不仅具有3D人脸支付级的精度和性能（搭载光鉴3D算法和人脸算法的光鉴模组已经通过银行卡检测中心BCTC的认证），并且能够克服屏幕带来的光学损耗，在10万lux的室外强光下也能够实现完整的3D重建。   共同构建起领先于行业的核心竞争力，打造5G智能终端产品，中兴手机与光鉴科技在屏下3D结构光技术上的合作，为量产屏下3D手机打下了坚实的基础，更有望给广大消费者带来完美的全面屏体验，亦可以依托优异的3D结构光性能实现诸如人脸支付、人脸解锁、3D美颜、AR自拍、3D建模等更多应用。

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