EDA是芯片设计的关键工具,地位堪比光刻机

近年来，中国芯片产业规模飞速增长。根据最新数据显示，2020年中国集成电路销售收入达到8848亿元，平均增长率为20%，相当于同期全球产业增速的三倍之多。

由此可见，中国已经成为全球最大、最具潜力的集成电路市场。可中国在集成电路领域的技术水平却不高，而且很多高端且关键的设备长期依赖海外进口。

例如EUV光刻机。受众所周知的原因影响，越来越多的普通消费者都开始关注到这个芯片制造过程中必不可少的高端设备。

而目前全球EUV光刻机市场的话语权，被牢牢掌握在一家荷兰公司阿斯麦手中。可阿斯麦并非是一家单纯的荷兰企业，背后有着太多的美国资本。

值得一提的是，在芯片诞生的全过程中，无比重要的设备不只有光刻机，还有一个支撑着8848亿中国市场的关键工具——EDA。

所谓EDA，指的是芯片设计环节，一种极为重要的工业设计软件，更是全球半导体这个庞大产业链最底层的关键技术。

资料显示，电子设计师通过EDA工具完成电子系统设计过程中的大量工作，非常方便且高效。

如果说没有EUV光刻机，就没有高精度工艺的晶圆；那么没有EDA，也就无所谓晶圆精度高低与否。

值得一提的是，EDA不仅可以应用于芯片设计环节，还被广泛应用于机械、电子、通信、航空航天甚至军事、生物、医学等重要领域。

遗憾的是，在EDA工具上，我国同样高度依赖进口。放眼全球EDA行业，美国、德国的三家企业几乎垄断了整个市场。

早在2017年，EDA行业高达70%的收入，都被来自美德的三大巨头收入囊中，目前同样如此。

由此可见，即便我国攻克EUV光刻机，在EDA工具上，海外照样可以卡中国半导体产业的脖子。

故而，EDA关键技术的攻关，与高端光刻机的攻关一样，迫在眉睫。目前，中国公司华大九天，就是国产EDA工具研发过程中的顶梁柱之一。

了解到，目前华大九天已经在平板显示领域以及硅知识产权IP上，都取得了突破性成果。尤其是在硅知识产权IP上，华大九天目前处于领跑地位。

但华大九天公司的EDA产品，与三大国际巨头相比还有很大差距。

为此，国产EDA领域也需要同国产光刻机或者整个半导体产业一样，通过产学研合作、打造国家级技术共享平台等手段，来齐心协力攻克难关。
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