黑棕化与粉红圈制程

黑棕化与粉红圈制程

1、Black oxide 黑氧化层
为了使多层板在压合后能保持最强的固着力起见，其内层板的铜导体表面，必须要先做上黑氧化处理层才行。目前这种粗化处理，又为适应不同需求而改进为棕化处理 (Brown Oxide)或红化处理，或黄铜化处理。

2、Brown Oxide　棕氧化
指内层板铜导体表面，在压合之前所事先进行的氧化处理层。此层有增大表面积的效果，能加强树脂硬化后的固着力，减少环氧树脂中硬化剂(Dicy) 对裸铜面的攻击，降低其附产物水份爆板的机率。一般黑氧化层中含一价亚铜的成份较多，棕氧化层则含二价铜较多，故性质也较稳定。不过这两种制程都要在高温(80 ~ 90℃) 槽液中处理(3 ~ 5分钟)，对内层薄板既不方便又有尺寸走样的麻烦，而且还有引发"粉红圈"后患的可能性。近来业界又有一种新做法出现，即对内层铜面只进行"特殊微粗化"的处理，就可得到固着力良好的多层板。果真有如此改善的成效时，则不但可简化制程降低成本，而且尚可使多层板之品质得到改进。

3、Pink Ring粉红圈
多层板内层板上的孔环，与镀通孔之孔壁互连处，其孔环表面的黑氧化或棕氧化层，因受到钻孔及镀孔之各种制程影响，以致被药水浸蚀而扩散还本成为圈状原色的裸铜面，称为"Pink Ring"，是一种品质上的缺点，其成因十分复杂(详见电路板信息杂志第37及38期)。

4、Wedge Void楔形缺口(破口)
多层板内层孔环之黑化层侧缘，在PTH制程中常受到各种强酸槽液的横向攻击。其微切片截面上会出现三角形的楔形缺口，称为Wedge Void。若黑化层被侵蚀得较深入时，即出现板外亦可见到的"Pink Ring"。此种 Wedge Void 发生的比例，一般新式"直接电镀"要比传统"化学铜"更多，原因是化学铜槽液与碱性，较不易攻击黑化膜，而直接电镀流程(含钯系，高分子系或碳粉系等)多由酸槽组成，在既无化学铜层之迅速沉积层，又无电镀铜之及时保护下，一旦黑化层被攻击成破口时，将会出现Wedge Void。