EDA/IC设计
芯片业提前反弹,大陆厂商对65nm代工需求突增
关于全球经济的景气趋势,经济学家的预测有时是不准的。像2009年初期大家都比较悲观,现在看来,由于全球经济复苏的力道较预期强劲,预计2010年就可超越2008年表现,这要归功于中国的山寨产品。而台积电在库存管理方面做得不错,所以恢复的很快,2010年将是台积电的一个好年。
我观察中國的半导体业,有一个值得注意和令人欣喜的事情,那就是近来大陆IC设计公司对65纳米的代工需求突然增加,虽然大量生产还没有开始,但是设计都在进行。之前,由于成本、产品和技术原因,他们都采用0.18um以上的工艺,少数采用0.13um。但是,现在他们卻跳过了90nm直接进入65nm。这里有几个原因:一是因为65nm的成本下降了,由于65nm是从90nm衍生过来,转移过程比较顺利,不像之前由0.13um或0.18um向90nm转移时成本会大幅地提升,所以台积电可以更有效地控制成本;二是中国IC设计公司的产品在升级,他们对于先进工艺的需求自然也提高了。
我认为对TD-LTE而言,65nm技术稍嫌不足,建议中国IC设计公司应该及早采用40nm技术来进行产品研发。事实上,我们一些国际用户都已经采用40nm工艺来设计LTE芯片了。儘管LTE预计到三年以后才会出现应用,但如果三年后国内设计公司才采用40nm進行研發,那时国际半导体业可能已经进入到28nm的水平,所以中国IC设计公司的CEO要精确掌握这个趋势。台积电计划在2010年将推出28nm工艺,相信我们在研发及制造上的实力,一定能满足中国半导体产业各个阶段的发展需要。
同时,我很高兴看到中国已经出现系统公司带动设计公司发展的趋势,比如华为和海思半导体就是一个很好的例子,这是中国半导体产业一个很好的方向,也是大陆设计产业的优势。现在我们向中国客户提供OIP(开放创新平台),就是希望能降低设计公司的成本门槛,并且加快产品的上市速度。OIP平台是台积电整合业界各方资源,包括EDA工具、IP核、ASIC设计服务和Memory所打造的一个生态环境,它将台积电的工艺和IP引入到主流的EDA工具之上,降低了EDA厂商高昂的开发成本,而IC设计公司利用OIP平台也可以节省大量时间并降低设计端到生产端的风险。目前OIP平台的开发进展顺利,欧美主流EDA工具商也加入了OIP平台。
对于中国的IC设计公司,我还有一个建议:一定要努力摆脱“一代拳王”的问题,也就是一个公司不能主要依靠一款产品打天下,而且同一个产品要做2至3代,同时还要做出2至3款产品,这样才有可能成功。我认为在TD-LTE领域,中国出现好的设计公司的机会很大。
另外,汽车电子也将是中国未来一个非常巨大的市场。中国已超过美国成为第一大汽车生产国,并且,每辆车平均花费在半导体的费用也在逐年提高。从2008至2013年,中国车用电子市场的年复合成长率为17.5%,同一时间全球的成长率仅为8%。台积电非常重视这一市场,也希望帮助中国IC设计公司进入这一诱人的市场。在汽车半导体市场,IC的可靠性是最大的门槛,台积电在这方面已设计出相应的工艺方案,并在上海的工厂对该工艺进行了两年的验证,证明是可靠的。台积电的“车用电子套装服务”在帮助中国IC设计公司实现汽车厂商要求的“零缺陷”的同时,将能使IC实现超过汽车本身生命期的目标。
关于中国的晶圆代工业,我认为盲目建厂的思路是不对的,中国应该把半导体业的发展重点放在芯片设计领域,因为中国有华为、中兴通讯这样的系统公司,做IC设计相當有优势。针对晶圆代工业的未来发展趋势,450mm的晶圆世代不会很快到来,仍需半导体设备供货商及制造商一起合作,才能促成450mm晶圆生产线所需的组件、基础设施与能力早日完成。
曾繁城
副董事长
***积体电路制造股份公司
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