中芯国际不用EUV光刻就攻克了类7nm工艺

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做为国内最大也是最先进的半导体制造公司,中芯国际在先进工艺上的进展引人关注,其中7nm及以下节点非常重要,这还牵涉到EUV光刻机。

日前有股民在互动平台上询问,称有报道指出中芯国际不用EUV光刻就攻克了类7nm工艺,要求中芯国际澄清。

对此,中芯国际表示,公司不针对传言进行评论。

从中芯国际官网的介绍来看,该公司提到的最先进工艺还是14nm,接下来的是N+1、N+2工艺,但没有指明具体的工艺节点。

中芯国际联合CEO赵海军曾表示,经过三年的积累,FinFET工艺已经取得了不错的成绩,N+1已经进入了风险量产,但是在外部因素的影响下,去年四季度起FinFET的产能利用率不足,爬坡需要时间,营收奉献尚未达到预期水准,折旧又对公司整体的盈利造成了负担。

责任编辑:lq

 

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