分布布拉格反射(DBR)半导体激光器结构原理简介

半导体器件

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描述

分布布拉格反射(DBR)半导体激光器结构原理简介

结构及工作机理

DBR激光器的腔体结构与F—P腔激光器不同,其基本原理是基于布拉格发射,如图2—80所示。布拉格发射是指在两种不同介质的交界面上,具有周期性的反射点,当光入射时,将产生周期性的反射,这种反射即称为布拉格发射。交界面本身可以取不同的形状:正弦波形或非正弦(如:方波、三角波等)。

在图2—80(a) 中,若:

半导体 (2—107)

其中m为整数,半导体为介质中的光波长,为空气中的光波长, 为等效折射率。

根据图中所示关系,可得

半导体(2—108)

在上式满足时,图中1,2,3的反射光进行干涉,其相位差为半导体的整数倍。式(2—108)即称为布拉格条件,其物理意义是:对特定的A和θ,有一个半导体与之对应,具有半导体波长的光所产生的各个反射光将产生干涉。

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