芯片制造工艺的流程

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  芯片制作完整过程包括:芯片设计、晶片制作、封装制作、成本测试等几个环节,其中晶片片制作过程尤为的复杂。下面图示让我们共同来了解一下芯片制作的过程,尤其是晶片制作部分。

  小编将为大家介绍一下芯片制造流程:

  •        首先是芯片设计,根据设计的需求,生成的“图样”。
  •   制作晶圆。使用晶圆切片机将硅晶棒切割出所需厚度的晶圆。
  •   晶圆涂膜。在晶圆表面涂上光阻薄膜,该薄膜能提升晶圆的抗氧化以及耐温能力。
  •   晶圆光刻显影、蚀刻。使用紫外光通过光罩和凸透镜后照射到晶圆涂膜上,使其软化,然后使用溶剂将其溶解冲走,使薄膜下的硅暴露出来。
  •   离子注入。使用刻蚀机在裸露出的硅上刻蚀出N阱和P阱,并注入离子,形成PN结(逻辑闸门);然后通过化学和物理气象沉淀做出上层金属连接电路。
  •   晶圆测试。经过上面的几道工艺之后,晶圆上会形成一个个格状的晶粒。通过针测的方式对每个晶粒进行电气特性检测。
  •   封装。将制造完成的晶圆固定,绑定引脚,然后根据用户的应用习惯、应用环境、市场形式等外在因素采用各种不同的封装形式;同种芯片内核可以有不同的封装形式。

  制造芯片主要就是在晶圆片上不断累加图案,让图案纵向连接,非常多层,会有100多层。并且需要花费许多的时间,从设计到量产可能需要四个月的时间。

 

  文章整合自:上海海思技术、百度经验、39度

编辑:ymf

 

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