芯片制造公司光刻机的情况

　　制造芯片需要用到光刻技术，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻机是其中的关键系统，又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。生产芯片就像冲印照片，光线通过模板聚焦在晶圆表面，晶圆表面的保护膜随光发生变化，通过腐蚀变化后的部分，剩下的部分就形成电路。

　　光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术，如德国的光学设备、美国的计量设备等，可以说是“集人类智慧大成的产物”，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

　　当前，全球最先进的EUV光刻机只有荷兰的ASML生产，占据了光刻机市场高达80%的市场。Intel、台积电、三星的光刻机都来自于与ASML。当然，最顶尖的光刻机不是荷兰一个公司制造的，而是集合了许多国家最先进技术的技术支持，可以说是多个国家国家共同努力的结果，比如德国的光学镜头、美国的计量设备等。ASML将这些来自不同国家的3万多个配件，分为13个系统，需要将误差分散到13个系统，如果德国的光学设备做的不准、美国的光源不准，那么ASML也无法制造出精密的光刻机。

　　我国光刻技术比较先进，上海微电子设备有限公司已经实现了90nm的批量生产。目前，65nm技术正在研究中。其他包括合肥新硕半导体有限公司、仙腾光电科技有限公司、无锡英苏半导体科技有限公司等企业，在光刻方面有自己的成就。然而，这些光刻企业仍在原有的道路上一步步前进。我们相信只要我们努力，我们就能在未来达到一个很高的水平。但对于平版印刷行业来说，虽然他们的追赶速度很快，但技术进步的速度也很快。因此，他们只能在低端保持一定的市场份额。

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