氮化镓半导体材料研究

摘要

氮化镓(GaN)是一种宽禁带隙的半导体材料，在半导体行业是继硅之后最受欢迎的材料。这背后的原动力趋势是led，微波，以及最近的电力电子。新的研究领域还包括自旋电子学和纳米带晶体管，利用了氮化镓的一些独特特性。氮化镓具有与硅相当的电子迁移率，但具有一个三倍大的带隙，使之成为极好的高功率应用和高温的候选人操作。能够形成薄型algan /GaN异质结构图，其表现出二维电子气体现象导致高电子迁移率晶体管。氮化镓研究的另一个有趣方向，它是基于GaN的微机械cal设备或GaN微机电系统(MEMS)。

充分释放氮化镓的潜力，实现新的先进全氮化镓集成电路，对器件(如谐振器和滤波器)、传感器(如温度和气体传感器)。

介绍

最近几年，GaN已经成为其中之一 其中最流行的半导体材料是。与其他任何正在增长的行业一样，在材料科学和设备技术方面的根本性突破一直是得益于制造和加工的快速改进品质因数。

氮化镓的机电性能

生长过程中的地应力测量

氮化镓的力学性能

审核编辑：汤梓红