氩离子抛光离子研磨CP制样 氩离子抛光制备EBSD样品效果分享

氩离子抛光技术又称CP截面抛光技术，是利用氩离子束对样品进行抛光，可以获得表面平滑的样品，而不会对样品造成机械损害。去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。

离子研磨CP截面抛光仪制样广泛，可用于于各种材料样品（除了液态）的制备，适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳，有钢铁、地质、油页岩、线路板， 锂离子电池、光伏材料、陶瓷、金属(氧化物,合金)、　高分子，聚合物、薄膜、半导体、EBSD样品、生物材料等包括平面抛光与截面抛光。

为此，金鉴实验室特向市场推出“氩离子抛光/CP截面抛光切割制作样品检测”业务，能够针对不同的样品的硬度，设置不同的电压、电流、离子枪的角度、离子束窗口，控制氩离子作用的深度、强度、角度、这样精准的参数，有利于制备成研究者理想的材料样品，这样的样品不仅表面光滑无损伤，而且还原材料内部的真实结构，正如页岩内部的细微孔隙在SEM下放大到100K时也能看得清清楚楚，以及材料内部的不同物质分层都能看的分界线明显。

离子研磨制样效果分享：

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氩离子抛光制备EBSD样品效果

  左图设备型号: Gatan 685 ；  右图设备型号：Fischione 1061

氩离子抛光与切割/CP截面抛光的优点

氩离子抛光与切割/CP截面抛光的优点

 

相比较下氩离子抛光/CP截面抛光的优点：
（1）对由硬材料和软材料组成的复合材料样品, 能够很精细地制作软硬接合部的截面, 而使用传统方法制样是很困难的。

（2）比FIB方法的抛光面积更大（~1mm以上）。

寄样要求

1. 送样前需要对样品进行预处理：样品预磨抛，样品要磨平，样品的上下表面要平行，样品抛光面至少用4000目砂纸磨平，在显微镜下看起来光滑，不粗糙。

2. 金鉴样品的尺寸要求：

2.1块状样品：以待抛光区域为中心点，样品直径不超过30mm、厚度0~20mm。（超出部分需要磨走）

2.2粉末样品：10g以上。

注：具体的样品要求可咨询在线业务！