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近日,据外媒路透社报道称,全球最先进的光刻机生产厂商ASML正致力于进行新一代光刻机的制造,预计第一台会在明年完工,将在2025能够正式投入使用,每台新光刻机售价预计在4亿美元左右。
新光刻机采用了High-NA光刻技术,High-NA指的是高数值孔径,据了解,这种High-NA光刻技术能降低66%的尺寸,也就意味着芯片制程能够进一步得到升级,芯片也将获得更高的性能,2nm之后的技术都得用这种技术来实现。High-NA光刻技术被认为是延续摩尔定律的关键。
不过采用了High-NA光刻技术的光刻机体积会比之前的光刻机要大30%左右,据悉重量会达到200吨,大小将会和双层巴士差不多大。
目前AMSL在High-NA光刻技术上还有一些压力,因为虽然光刻机是ASML生产的,但是ASML有着几百家零件供应商,对供应商的依赖性比较严重,所以一旦供应链出了问题,那么ASML的整个光刻机产业链都将受到影响。
综合整理自 DeepTech深科技 中关村在线 IT之家
审核编辑 黄昊宇
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