台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机，主要用于相关研究

日前，在台积电召开的会议上，有一名高管称台积电将于2024年引进ASML正在研发的最新的High-NA EUV光刻机。

会议中，该高管称：为了满足客户所需的相关基础设施的开发等，台积电将于2024年引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机，并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道：台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去，将首先与合作伙伴进行相关的研究。

据了解，High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径，相比于现在的光刻技术，这种光刻机能够降低66%的尺寸，2nm及其之后的技术也都要靠High-NA EUV光刻机才能够实现，所以这种光刻机也被认为是延续摩尔定律的关键技术。

目前ASML还在制造High-NA EUV光刻机，首台将会在明年完工，不过正式投入使用估计要等到2025年了。

综合整理自 同花顺财经 澎湃新闻 IT之家

审核编辑 黄昊宇