ASML的High-NA光刻机居然只卖出5台,大多芯片厂商不为所动

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在电子化程度如此高的现在,人们身边的电子设备比比皆是,而它们又都离不开芯片。现在芯片制程技术也处于飞速发展的阶段,芯片巨头台积电和三星都将在今年下半年开始量产3nm制程芯片,2024或2025年实现2nm制程的量产。

目前市面上最先进的是EUV光刻机,而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm,也就是说,再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。

ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够将尺寸降低66%,如此一来芯片的制程又能继续往前迈步,这种新型光刻机被认为是延续摩尔定律的关键。

目前EUV光刻机处于供不应求的状态,按道理来说更加先进的High-NA光刻机应该更加抢手才对,不过奇怪的是,ASML表示已经收到了来自5家客户的5个High-NA光刻机订单,High-NA光刻机貌似没有想象中的那么火爆。不过这还是连3nm都没有跨入的时代,可能有些厂商不愿过早购买昂贵的新型光刻机,包括将3nm制程作为重点发展的台积电也是一样。

综合整理自 笨鸟科技 简叔 百家众神

审核编辑 黄昊宇

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