中国光刻机现在多少纳米 光刻机的基本原理

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  众所周知,光刻机一直处于垄断地位,在光刻机领域,最有名的就是ASML公司了。

  如今最先进的光刻机是600系列,光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机,最高可以达到5纳米的工艺制作。

  而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露,预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离,虽然起步晚,但是国人的不断努力,仍会弯道超车。

  截止2022年6月,世界上最先进的光刻机已经能够加工13 纳米线条。而我们人类的头发丝直径大约是 50~70微米,也就是说,光刻可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条。

  据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产,再过一两年一定能用于国产芯片的生产,而且,按中芯国际梁孟松在2020年就说到的,一定能用于规模量产7纳米芯片。

  光刻机的生产国家有荷兰、中国、日本、美国、韩国,其中荷兰光刻机的精度为首。

  光刻机是一个制造芯片的机器,芯片上的图形模板(微电路)需要用机器来雕刻。这就是光刻机的基本原理,利用高级技术去制造芯片。又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

  文章综合文学小百灵、螳臂推车、科技老番茄、情声课堂

  编辑:黄飞

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