euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

　　光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。

　　在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、 形状控制手段 ，将光束透射过画着线路图的掩模。

　　经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

　　光刻机设备涉及到系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术是半导体行业中技术含量最高的设备。

　　光刻的原理是在已经切割好的晶圆（通常是多晶硅）上覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用紫外线如深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV）透过掩模照射在晶圆表面，被紫外线照射到的光刻胶会发生反应。然后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶，就实现了电路图从掩模到晶片的转移。

　　当前最先进的光刻机当属荷兰ASML公司的EUV光刻机，预计在光路系统的帮助下，可以刻画出2-5纳米的芯片。

　　文章综合懂视网、CSDN（weixin_39662955）、知乎有鱼

　　编辑：黄飞