euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机

EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。

数据显示，全球EUV光刻机的安装量应该在140台，目前EUV光刻机的出货量不高，2021年仅为42台，占ASML全年光刻机出货量的1/7。

无论是先进制程芯片还是成熟制程芯片，都离不开光刻机这一重要设备，特别是高端的EUV光刻机。据相关报道，ASML正在研发新一代更先进的高数值孔径EUV光刻机，预计在2023年完成制作，2025年进行应用。

在光刻机领域，目前有三大核心技术，分别是光源、双工作台和光学物镜。同时，EUV光刻机本身就属于高端科技产品，光有技术其实也不够，还应该要有充足的，大量的资金。

目前我国芯片领域重点方向还在于技术上弯道超车另辟蹊径，包括超分辨光刻，SSMB，积累在光刻芯片领域空白，积累自身经验，发展芯片领域企业群体。

文章综合白萝卜科技、笨鸟科技、品阅网

编辑：黄飞