euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机

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EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。

数据显示,全球EUV光刻机的安装量应该在140台,目前EUV光刻机的出货量不高,2021年仅为42台,占ASML全年光刻机出货量的1/7。

无论是先进制程芯片还是成熟制程芯片,都离不开光刻机这一重要设备,特别是高端的EUV光刻机。据相关报道,ASML正在研发新一代更先进的高数值孔径EUV光刻机,预计在2023年完成制作,2025年进行应用。

在光刻机领域,目前有三大核心技术,分别是光源、双工作台和光学物镜。同时,EUV光刻机本身就属于高端科技产品,光有技术其实也不够,还应该要有充足的,大量的资金。

目前我国芯片领域重点方向还在于技术上弯道超车另辟蹊径,包括超分辨光刻,SSMB,积累在光刻芯片领域空白,积累自身经验,发展芯片领域企业群体。

文章综合白萝卜科技、笨鸟科技、品阅网

编辑:黄飞

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