duv光刻机和euv光刻机区别是什么

　　目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？

　　duv光刻机和euv光刻机区别

　　1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。

　　2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，内部必须是真空操作。

　　以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了，现在基本都是euv光刻机。

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　　编辑：何安