氧化物技术现状，氧化物技术哪家强？

为了达成2060年碳中和目标，我国正加快能源绿色低碳转型。同时随着家庭娱乐，商业赛事直播、网络直播、工作线上化，等需求的不断增长，超大尺寸、高分辨率及高刷新率的显示产品也受到了各大厂商的关注与发展。

随着消费者对屏幕的要求越来越高，提升性能的角度亦有多种。

例如，从屏幕的驱动技术入手解决，就有：a-Si、LTPS、Oxide三种技术。

虽然这些技术各有优势，但相对其他两种技术，Oxide有如下优势：

1、Oxide具有高电子迁移率，可实现面板的高分辨率、高刷新率、窄边框、低功耗等性能。。

2、漏电流方面，Oxide最佳，可实现低频驱动，画面无更新时可以让画面保持更长时间，进一步提高省电效果，实现长续航在低功耗方面有明显优势。

低频显示功耗优势

3、Oxide性能和成本相对均衡，目前主要用于中大尺寸的高端LCD和大尺寸的OLED屏，当前市场份额较高。

氧化物开口率更高

氧化物技术现状

金属氧化物半导体是一种透明半导体材料，其导带由金属离子的ns轨道形成，价带由氧离子的2p轨道形成，电子在金属阳离子轨道与邻近阳离子轨道的重叠区进行快速传输。　IGZO（indium gallium zinc oxide，铟镓锌氧化物）是金属氧化物半导体的一种，由氧化铟、氧化镓、氧化锌烧结而成，2003年由日本东京工业大学细野秀雄最先提出在 TFT行业中应用，是最早实现量产的金属氧化物。

金属氧化物半导体导电轨道

虽然，氧化物比已有的非晶硅类技术的面板具有更高的迁移率、开口率，更优异的截止特性，可以采用低温工艺制造，可大尺寸化等优点，能够满足末来产品高品质提升和降低能耗的双重需求。然而，氧化物半导体表现出较差的耐热性，在薄膜晶体管的制造过程中，尤其是热处理或等离子体处理过程中，氧容易被分离并由此形成晶格缺陷，而晶格缺陷会使氧化物半导体具有电器上浅得杂质水平，并使氧化物半导体电阻变低。在氧化物技术产业化应用上，传统的氧化物薄膜微结构在偏压应力、光照、大电流下器件性能衰减等不稳定的问题，以及铜工艺与氧化物工艺不匹配的难题。

氧化物技术哪家强？

随着氧化物技术迭代升级，不断完善，各个企业亦各显神通，那么京东方作为半导体显示龙头企业，在氧化物半导体技术领域上也是率先发力，已有多年的技术积累并取得了重大突破。跟小酷一起了解一下吧！

京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术，提出独有的氮氧平和理论、界面修复理论，同时产学联合，在材料、器件结构和原理上均实现了突破，解决了氧化物半导体显示技术的量产难题，在国内率先实现量产。

该展品是BOE(京东方)在2022年SID展示的高迁移率氧化物样机，是BOE持续研究探索的成果，采用新型氧化物材料和工艺方案，场效应迁移率提升为原来的3倍，大于30cm2/V.s。综合高迁移率、GOA数量减半及驱动电压优化特点，其逻辑功耗比常规氧化物优化40％，实现极致低功耗。边框较常规氧化物减小1mm，实现极致窄边框。

京东方的氧化物技术优势主要在于NB刷新率高、迁移率高、LTPO低功率。

近年京东方的氧化物实现了高迁移率、超高刷新率、大尺寸LCDGOA技术、LTPO技术、大尺寸高分辨率OLED显示技术的突破。基于强大的技术创新力赋能，京东方氧化物半导体技术产品形态分布实现突破，从手机产品到超大的110英寸的电视产品，从2K显示产品到8K超高分辨率产品显示，从1HZ的低频驱动产品到500Hz的高频驱动产品，从LCD显示产品到OLED显示产品，基本实现了主流市场产品的全覆盖，引领全球半导体显示行业的发展。

氧化物技术去向何方？

基于氧化物半导体的薄膜晶体管仍然会是末来显示行业研究的热点技术之一。国内相关技术人员应加大研发力度，抓住机遇，开发出综合性能优良的基于氧化物半导体的薄膜晶体管以满足显示领域越来越高的性能需求，同时增强我国在该方面技术的竞争力。   未来，如同京东方这样的领先企业，将会在创新之路上不断前进，引领中国的半导体显示技术企业不断前进，持续提升产品显示性能，大力推进氧化物技术搭配低频驱动技术的普及及应用，赋能绿色经济，不断提升系那是产品的能效助力“碳中和”目标早日实现，持续为用户推出更优美，更节能的显示产品，用心改变生活，用科技让生活更加美好！

审核编辑 ：李倩