电子说
HHI的那个InP平台,这几年更新了几个版本,目前能达到100GHz带宽
光学带宽并不是整个电光转换系统的带宽瓶颈,而是光学集成度虽然越来越高,但电学才是真正让整体带宽受限的主要因素。
射频信号长度导致射频衰减增大,各个电路信号节点,阻抗失配、反射、行波速度等等,导致无法真正实现电光转换带宽提升。
在InP平台上,各个光学器件也越来越密集,比如多个MZM的紧凑布局
可以达到25μm超窄间距布局
还有更紧凑的MZ相控布局
更紧凑的探测器阵列,基于InP平台,并wafer反向用BCB胶粘贴在硅衬底上,做微米级的紧凑布局,比如用在Lidar上。
光学器件越来越小,集成度越来越高,对电芯片与光芯片的互相适配就更加重要了。之前写过很多硅光集成与集成电路的晶圆级设计,那是有材料一致性的优势。
但InP集成光学和硅(或锗硅)集成电路,二者之间的键合有晶格不匹配的可靠性风险。常见的是BCB胶黏合,或者用亲水界面的氧做原子键合。
这两个都不算十分完美。
这次ECOC的workshop,TUE介绍了NXP的锗硅集成电路上键合3吋HHI InP集成晶圆,做wafer级密集互联,提高带宽。
从示意图与欧洲这几个厂的传统工艺来看,大概率用薄层BCB做的键合层(回头等确认了这个材料,再补上)。
审核编辑:刘清
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