半导体之选择性外延工艺介绍

选择性外延工艺

通过图形化硅氧化或氮化硅掩蔽薄膜生长，可以在掩蔽膜和硅暴露的位置生长外延层。这个过程称为选择性外延生长(SEG)。

下图显示了利用SEG SiC形成NMOS拉伸应变沟道，以及利用SEG SiGe形成PMOS压缩应变沟道。
 

多晶硅沉积

自从20世纪70年代中期离子注入被引入IC生产中作为硅掺杂工艺后，多晶硅就作为栅极材料使用，同时也广泛用于DRAM芯片的电容器电极。

下图显示了多晶硅在先进DRAM 芯片上的应用。

硅化物叠在第一层多晶硅(Poly 1)上形成栅电极和局部连线，第二层多晶硅(Poly 2)形成源极/漏极和单元连线之间的接触栓塞。

硅化物叠在第三层多晶硅(Poly 3)上形成单元连线，第四层多晶硅(Poly 4)和第五层多晶硅(Poly 5)则形成储存电容器的两个电极，中间所夹的是高介电系数的电介质。

为了维持所需的电容值，可以通过使用高介电系数的电介质减少电容的尺寸。

多晶硅沉积是一种低压化学气相沉积(UPCVD), 一般在真空系统的炉管中进行(见下图) 。
 

多晶硅沉积一般釆用硅烷(SiH4)化学反应。高温条件下硅烷将分解并在加热表面形成硅 沉积，该化学反应可以表示如下：

SiH4 --> Si+2H2

多晶硅也可以使用二氯W(SiH2Cl2, DCS)的化学反应形成沉积。高温状态下DCS将和氢反应并在加热表面形成硅沉积，DCS过程需要的沉积温度比硅烷过程高。

DCS的化学反应为：

SiH2Cl2 +H2 --> Si+2HCl

通过在反应室内(即炉管中)将三氢化碑(ah3 )、三氢化磷(PH3)或二硼烷的掺杂气体直接输入硅烷或DCS的硅材料气体中，就可以进行临场低压化学气相沉积(LPCVD)的多晶硅掺杂过程。

一般情况下，多晶硅沉积是在0.2-1 Torr的低压条件及600 ~650摄氏度之间的沉积温度下进行，使用纯硅烷或以氮气稀释后纯度为20% ~30%的硅烷。

这两种沉积过程的沉积速率都在100〜200A/min之间，主要由沉积时的温度决定。晶圆内的薄膜厚度不均匀性低于4%。

多晶硅沉积过程如下：

•系统闲置时注入吹除净化氮气

•系统闲置时注入工艺氮气

•注入工艺氮气并载入晶圆

•注入工艺氮气并降下反应炉管(钟形玻璃罩)

•关掉氮气，抽真空使反应室气压降低到基本气压(小于2 mTorr)

•注入氮气并稳定晶圆温度、检查漏气

•关掉氮气，抽真空使气压回升到基本气压(小于2 mTorr)

•注入氮气并设置工艺过程所需的气压(约250 mTorr)

•开启SiH4气流并关掉氮气，开始沉积

•关掉硅烷气流并打开栅极活塞，抽真空使气压回升到基本气压

•关闭栅极活塞，注入氮气并将气压提高到一个大气压力

•注入氮气降低晶圆温度，然后升起钟形玻璃罩

•注入工艺氮气并卸载晶圆 •

•系统闲置时注入吹除净化氮气

LPCVD多晶硅沉积过程主要由工艺温度、工艺压力、稀释过程的硅烷分压及掺杂物的浓度决定。虽然晶圆的间距和负载尺寸对沉积速率的影响较小，但对晶圆的均匀性相当重要。

多晶硅薄膜的电阻率很大程度上取决于沉积时的温度、掺杂物浓度及退火温度，而退火温度又会影响晶粒的大小。

增加沉积温度将造成电阻率降低，提高掺杂物浓度会降低电阻率，较高的退火温度将形成较大尺寸晶粒，并使电阻率随之下降。

多晶硅的晶粒尺寸越大，其刻蚀工艺就越困难，这是因为大的晶粒尺寸将造成粗糙的多晶侧壁，所以必须在低温下进行多晶硅沉积以获得较小的晶粒尺寸，经过多晶硅刻蚀和光刻胶剥除，再经过高温退火形成较大的晶粒尺寸和较低的电阻率。

某些情况是在450摄氏度左右沉积非晶态硅后再进行图形化、刻蚀及退火，最后形成具有更大、更均匀晶粒尺寸的多晶硅。

审核编辑：刘清