光电导材料和光敏电阻材料

光电导材料

光电导材料是指光照下呈现电导急剧增加的材料，广泛用于静电复印、静电制版、全息照相、激光打印等领域。主要的光电导材料有硒系光电导材料、有机光电导材料和无定形硅系列光电导材料。

光敏电阻材料

光敏电阻材料是光照下电导率能发生改变的物体。在光敏电阻材料中，除了晶体结构外，禁带宽度对其性能影响甚大。光敏电阻是均质型半导体光电器件，选用禁带宽、迁移率大的N型半导体可获得大的增益。

光敏电阻通常采用蒸发的方法制得0.3~1μm大小的晶粒聚合而成的1μm厚的多孔结构。常用光敏电阻材料有硫化铅、碲化铅、砷化铅、硫化镉、锑化铟等。单晶型硫化镉对可见光及X、α、β和γ射线都很灵敏。但受单晶层尺寸限制，光电流容量小。多晶型硫化镉可制成光电流大和光谱灵敏范围较宽的光敏电阻，但响应时间较长。硒化镉比硫化镉的光谱灵敏范围大，响应速度快，但低温性能较差。

审核编辑 黄昊宇