华为最新消息 EUV光刻技术新专利面市

对于光刻机难道我们真就毫无还手之力了？其实也不见得，华为最新的专利端上来了，看看这道硬菜。日前，华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”的新专利公开，专利申请号为 CN202110524685.X。这能解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，这个也是 EUV 光刻常见问题。

从介绍中可以看出，该专利提供了一种光刻装置，通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场在曝光时间内的积累光强均匀化，从而达到匀光的目的，继而也就解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。

       先不谈这项专利何时才能落地才能实现量产，但我们的产业一直奋发图强，我们一直在努力，华为一直奋斗，华为一直在努力解决芯片卡脖子问题。

虽然现在的ASML已经奠定了它在世界第一光刻机制造商的地位，在极紫外光刻机（EUV）市场上，就只有荷兰的 ASML 一家，市场占有率 100%。这种极紫外光刻机可以制造 7nm、5nm，甚至更先进制程的芯片。但是弯道超车的事我们最擅长，后来居上并不是开玩笑只是说说的。

光刻机的生产复杂程度也是超乎我们想象，但是我们的产业界都是努力，尽管短时间内我国光刻机难以追赶世界光刻机世界水平，但是一直没有停止进步。我们有做整体集成的上海微电子、有做光源系统的科益虹源，还有做物镜系统的国望光学，做曝光光学系统的国科精密，做双工作台的华卓精科，做浸没系统的启尔机电。还有一批中国科技公司在做光刻配套设施，其中包括光刻胶，光刻气体，光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等。我们脚步没有停止，我们的进步没有停止，我们的努力终究会有回报。

另外我们还看到，现在荷兰半导体设备大厂ASML的投资动作也是频频，已经在中国台湾和韩国落子设厂。

综合自 快科技 运营商财经 镁客网 IT 之家