华为突破EUV光刻机核心技术！

因受到美国单方面的限制，华为一直无法在5G芯片领域大展拳脚，其自主设计的华为海思芯片没有代工厂愿意生产，整个业务线几近陷入停滞，不过这并没有让华为放弃海思半导体研发部门。

2022年华为前三季度研发投入超1100亿，10年来华为研发投入近万亿！华为最近在光芯片、量子芯片方面频频突破，让外媒感到震惊！

近日，博主@厂长是关同学爆料称“华为近期公开了一个关于光刻方面的专利该专利申请于2021年5月13日，专利主要讲述反射镜，光刻装置及其控制方法这个专利技术描述中，涵盖极紫外光方面的相关技术，也就是说华为也在研究光刻机极紫外光的新专利，看来华为对光刻机领域的攻克一直都在进行中，而这次公布的光刻技术，充分说明了华为获得了阶段性的突破，未来结合其他企业，我相信属于我们自己，百分百国产化的光刻机也不会太远了”

据了解，华为申请的这项专利名称为《反射镜、光刻装置及其控制方法》，华为通过一套复杂的算法，解决了EUV光刻机无法匀光的问题，这是光刻机制造方面的一大难题，被华为彻底解决了。

目前，荷兰ASML公司在EUV光刻机领域稳居第一，在EUV光刻机市场中具有100%的市场占有率，也就是说ASML一家公司就把EUV光刻机领域垄断了。ASML的首席技术官对我国将自主研发EUV光刻机这件事表现出了不屑一顾的态度，他曾对我国科研人员说：“即使给你们EUV光刻机的制造图纸，你们也造出不出来。”

ASML做梦都想不到，短短半年时间我国芯片突破竟然如此之快，一旦我国绕过EUV光刻机生产出高端芯片，这对于ASML来说就像被制裁一样难受！而且日本的NIL工艺也已经开始渗透中国市场，日本专家表示NIL工艺最高可以实现5nm工艺，是ASML光刻机的完美替代！

因此ASML终于坐不住了，无视美国禁令向中国出手了多台DUV光刻机。而且ASML还公开表示，要在2025-2026年之前将DUV光刻机扩产至600台，将EUV光刻机扩产至90台！在全球芯片过剩的背景下，只有我国具备强劲的芯片需求，ASML扩产到底卖给谁？相信大家心里都清楚了！

没有伤痕累累，哪来皮糙肉厚？英雄自古多磨难！在华为以及众多中国科技企业的共同努力下，我们在最近半年内频频突破芯片关键技术，中国芯片产业已经走出了最黑暗的时刻，曙光就在眼前了！为华为点赞，为中国芯片点赞！

编辑：黄飞