模拟技术
一、场效应管分类
1.两类电场效应
场效应管:场效应晶体管
①PN结耗尽层宽度随反向电压变化的场效应
在PN结施加反向电压,耗尽层会逐渐变宽,通过改变耗尽层宽度来对导电通道进行控制。
②电容正负电荷吸引力构建导电通道的场效应
当在电容左基板上施加正电荷,P型半导体的自由电子会向左侧运动,随着左侧基板电压增大,自由电子会在P型半导体左侧汇集,当电压增加到一定程度,P型半导体左侧区域会形成反型层(P型半导体的多子时空穴,而这里自由电子较多,所以称为反型层)
2.场效应管分类
①结型场效应管
通过改变PN结耗尽层宽度随反向电压变化的场效应管
②增强型MOS管
通过电容正负电荷吸引力构建导电通道的场效应管
栅-源不加电压时,漏-源不存在导电沟道
③耗尽型MOS管
通过电容正负电荷吸引力构建导电通道的场效应管
栅-源不加电压时,漏-源存在导电沟道
二、结型场效应管结构
1.N沟道结型场效应管结构
①在同一块N型半导体上,制作两个高掺杂的P区,并连在一起,所引出的电极称为栅极s
②N型半导体的两端分别引出两个电极,一个称为漏极d,一个称为源极s
③P区与N区的交界面形成耗尽层(不导电)
④漏-源之间的非耗尽层区域称为导电沟道(导电)
2.晶体管与场效应管的区别
晶体管:电流要经过P区和N区,穿过PN结
场效应管:电流只流过N区,不穿过PN结
3.结型场效应管分类
通过箭头指向判断时哪种结型场效应管
箭头指向的为N沟道结型场效应管
三、结型场效应管工作原理
1.Ugs对导电沟道的控制(Uds=0)
①当Ugs=0时
耗尽层窄,导电沟道宽
②当Ugs>0时
PN结正偏,耗尽层变窄, 导电沟道变宽(但是影响小,因为本就导电沟道就很宽)
(3)UGS(关闭)
PN结反偏,耗尽层变宽,导电沟道变窄,沟道电阻增大
(4)Ugs=Ugs(关闭)<0
耗尽层闭合,导电沟道消失,沟道电阻无穷大
⑤总结
Ugs>Ugs(off)
Ugd>Ugs(关闭)
当Ugd=Ugs(off)时,称为预夹断
2.漏-源电压Uds对漏极电流id的影响
(1)Ugs>Ugs(off),Uds=0
因为Ugd=Ugs-Uds
ugd=ugs
但是因为Uds=0,所以id=0
②Ugs>Ugs(off),Uds逐渐增大
因为Ugd=Ugs-Uds
Ugd<Ugs
所以漏极导电沟道会变窄,
Ugs不变,沟道电阻不变
(3)Ugs>Ugs(off),Uds=Ugs-Ugs(off)
因为Ugd=Ugs-Uds
Ugd=Ugs(off)
漏极导电沟道开始出现夹断
(4)Ugs>Ugs(关闭),Uds>Ugs-Ugs(关闭)
因为Ugd=Ugs-Uds
Ugd<Ugs(off)
漏极的夹断区逐渐加长
⑤总结
Uds增大,d-s电场增大,id增大;
Uds增大,夹断区边长,d-s电阻便把,id减小;
漏极电流id仅仅取决于Ugs,而与Uds无关,表现出恒流特性
3.总结
两断截止,两通阻,一通一断时恒流
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