氮化镓技术的应用

 氮化镓（GaN）是一种具有半导体特性的化合物，是由氮和镓组成的一种宽禁带半导体材料，与碳化硅（SiC）并称为第三代半导体材料的双雄。GaN具有更宽的“带隙（band-gap）”，因此与硅基电子产品相比具有许多优势。带隙本质上衡量的是能量通过材料的难易程度。具有禁带宽度大、击穿电场高、饱和电子速率大、热导率高、化学性质稳定和抗辐射能力强等优点，成为高温、高频、大功率微波器件的首选材料之一。其目前主要用于功率器件领域，未来在高频通信领域也将有极大应用潜力。

其主要应用为半导体照明、电力电子器件、激光器和探测器、以及其他4个领域。氮化镓（GaN）在实验室中制成，具有带隙宽、原子键强、导热率高、化学性能稳定、抗辐照能力强、结构类似纤锌矿、硬度很高等特点，在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用等方面有着广阔的应用前景。

氮化镓可用于制造场效应管（FET）。平面氮化镓场效应管和硅基的MOSFET类似，通过栅极控制电流从源极流向漏极。