DASP (Defect and Dopant ab-initio Simulation Package)是一款半导体缺陷和杂质性质的第一性原理计算模拟软件包,该软件包能针对输入的半导体晶体结构,基于材料基因组数据库和第一性原理软件包,自动计算并输出半导体的热力学稳定性,缺陷和杂质形成能及离化能级,半导体样品中缺陷、杂质和载流子浓度及费米能级,关键缺陷和杂质诱导的光致发光谱、载流子辐射和非辐射俘获截面及少子寿命。
针对任一半导体,DASP软件可以计算给出如下性质:热力学稳定性、元素化学势空间的稳定范围、缺陷(含杂质,下同)形成能、缺陷转变能级、各生长条件下的费米能级、载流子和缺陷浓度、缺陷的光致发光谱、缺陷对载流子的俘获截面、辐射和非辐射复合速率等。
本期将给大家介绍DASP 双钙钛矿材料稳定性的快速计算预测 5.5.3-5.5.3.2 的内容。
5.5.3. Rb2LiInI6 (预测结果:不稳定)
5.5.3.1. 准备POSCAR与dasp.in
材料 Rb2LiInI6 的 POSCAR 文件可参考 Materials Project 数据库获得,需用户自行优化或设置晶体结构。本案例采取的 POSCAR 文件如下:
在 dasp.in 文件中,用户需根据自身情况设置任务脚本相关参数,并设置 tsc_only = T 以及 database_api 。具体可参考 Cs2AgBiCl6 案例所述。
5.5.3.2. 计算与分析
host结构的总能计算(与MP参数保持一致):
TSC模块将使用 Materials Project 数据库提供的输入参数(INCAR,KPOINTS,POTCAR)对用户给定的原胞做结构优化和静态计算,该计算得到的总能与MP数据库的总能是可比的(参照前文案例)。
稳定性与关键杂相快速分析:
TSC模块将搜寻MP数据库上所有与Rb2LiInI6相竞争的杂项,根据本步骤的输出文件 materials_info.yaml 可以发现,所有考虑到的杂项包括:
通过DFT计算的Rb2LiInI6的总能与MP数据库中杂相的总能,判断出Rb2LiInI6是 不稳定的 。在 2tsc.out 中可看到相关的信息:
K2LiYF6的 energy_above_hull (eV/atom) 数值输出在文件 materials_info.yaml 中,其值为正,与“该化合物不稳定”的分析结果相符。
其分解产物包括RbInI4、LiI、RbI,这一点也可从输出文件 materials_info.yaml 获知:
由于K2LiYF6不稳定,目前本模块无法判断出关键杂相,也无法输出稳定区域图像,而且,TSC模块不会进一步做第二阶段的计算。
若用户仍然希望做第二阶段计算,获得稳定区域化学势,则可以按照 2tsc.out 文件的提示,可以设置 excluded_phase 来排除某些杂项对目标化合物稳定性的影响,一般选择排除分解物中的一种或多种,来使得目标化合物拥有可参考的稳定区域。
即,在 dasp.in 文件中设置 excluded_phase = RbInI4 或 excluded_phase = LiI ,亦或excluded_phase = RbInI4 RbI 等 ,然后重新运行 TSC 模块。此时,有可能该化合物仍然不稳定,则可以将当前分解路径中的某些化合物追加写入 excluded_phase ,然后再次运行TSC模块。(可参考K2LiYF6的分析过程)
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