新CODE V改进了光学设计工作流程和效率

CODE V 版本 2023.03 中的新功能改进了从曲面输入到设计导出的设计工作流程。该版本包括SagFit实用程序，该实用程序可以比以往更快，更直观地转换和拟合表面。它提供了更好的优化帮助，提高了建模设计速度。它还包括与LightTools的增强互操作性，可轻松模拟包含成像和非成像组件的光学系统。

新的SagFit实用程序

如果已测量下垂数据或 CAD 曲面，则可以使用新的 SagFit 实用程序将曲面拟合到本机 CODE V 曲面。使用原生 CODE V 曲面可为您提供额外的灵活性和控制力，以优化您的设计。以下是它的工作原理，只需三个简单的步骤：

打开垂下数据文件或对当前镜头中的现有曲面进行采样以进行拟合过程。

选择要拟合的曲面类型并定义要包括的术语。该过程是交互式的，并报告统计数据以帮助您评估拟合的充分性。

对拟合感到满意后，移至“导出曲面”，在其中可以选择将拟合曲面应用于现有曲面，或将拟合曲面作为新曲面插入到模型中。

代码 V SagFit 实用程序

用于学习代码 V 的新示例模型库

CODE V 示例模型库是一种新资源，可帮助您快速了解如何使用 CODE V 中的特定功能。

该库包括涵盖一系列关键 CODE V 功能的示例，包括用于全局优化的全局合成、用于分析衍射相关特性的光束合成传播以及用于设置透镜系统规格的 SpecBuilder。

每个示例模型都有描述模型的文档、您将学习的功能以及如何逐步完成示例。许多示例包括一个或多个可以为您执行这些步骤的序列文件。您可以打开序列文件以检查其 Macro-PLUS 代码并运行它以查看结果。

要了解更多信息，请访问 Synopsys 学习中心并观看这段两分钟的视频，即 CODE V 示例模型库。

我们计划在每次发布 CODE V 时扩展此库 — 敬请期待更多示例！

代码 V 示例模型库接口

宏加改进：优化约束排序

CODE V 的早期版本引入了在 CODE V 工作表缓冲区中存储来自优化的约束信息的选项。

CODE V 2023.03 版本添加了“列表约束数据”宏，用于对此约束信息进行筛选和排序。这样可以更轻松地理解主动和加权设计约束对系统优化的影响。

宏 PLUS 改进：仅在定义的孔径区域生成/绘制数据

CODE V 中的几个制造支持宏已得到增强，允许您仅在定义的孔径区域生成和绘制数据。更新的宏包括：

用于绘制曲面曲率属性的 Seq

表面的 2D 凹陷贴图的 seq

seq 用于测量曲面与参考曲面的下垂偏离

此增强功能还支持镜头使用光圈 （CA） 设置。

代码 V 宏图数据

更快的宏执行

此版本中的底层更新有助于更快地执行环境分析宏以及处理具有大量拾音器的模型的宏。

此外，折射率数据库项目IND的索引还有一个新关键字ABS。包含 ABS 关键字时，它将返回索引的绝对值，而不是带符号索引。

新的帮助系统

CODE V 中的帮助系统已针对 2023.03 版本进行了改进。帮助系统现在使用默认安装的浏览器来显示帮助主题，并提供对 CODE V 参考手册中所有信息的轻松访问。

帮助仍然随 CODE V 一起安装，因此不需要互联网连接。与以前的版本一样，您可以通过转到“帮助”菜单、按键盘上的 F1 键或单击 CODE V 界面中的“帮助”按钮来访问 CODE V 中的帮助。

代码 V 帮助系统

增强与LightTools的互操作性

此版本包括与 LightTools 互操作性的增强功能，以便从 CODE V 镜头执行杂散光分析。您可以在光学系统文件中导出加密的薄膜镀膜和更坚固的孔径。

此外，您可以导出带有孔孔的镜头，它们将在 LightTools 中显示为镜头表面上的孔，可以在 3D 设计视图或系统导航器中进行操作。

在LightTools中建模的孔孔径

审核编辑：郭婷