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9.4.4 砷化镓外延∈《集成电路产业全书》2022-01-17 524
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9.3.12 氧化诱生层错∈《集成电路产业全书》2022-01-07 377
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9.3.13 外延缺陷∈《集成电路产业全书》2022-01-10 371
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9.3.1 点缺陷∈《集成电路产业全书》2022-01-06 359
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9.2.6 抛光工艺和抛光片∈《集成电路产业全书》2022-01-06 565
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10.9.8 缺陷容忍度∈《集成电路产业全书》2022-05-26 437
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9.5.1 集成电路对光掩模材料的要求及发展∈《集成电路产业全书》2022-02-07 742
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9.3.10 滑移位错∈《集成电路产业全书》2022-01-05 329
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9.3.3 面缺陷∈《集成电路产业全书》2021-12-31 319
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9.3.2 线缺陷∈《集成电路产业全书》2021-12-31 413
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9.3.4 体缺陷∈《集成电路产业全书》2021-12-31 383
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9.3.5 微缺陷∈《集成电路产业全书》2021-12-31 663
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10.8.1 可植入式微系统∈《集成电路产业全书》2022-05-20 433
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9.3.11 失配位错∈《集成电路产业全书》2022-01-07 376
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10.7.2 可折叠硅基集成电路（FSIC）∈《集成电路产业全书》2022-05-09 515
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